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苹果专利曝光iMac全新设计:J形下弯

据外媒报导,苹果日前曝光的专利文件显现,iMac将会选用新的外观规划,类似于大写字母“J”。

专利文件显现,iMac的显现屏经过弧形下弯的玻璃原料过渡到底部,底部平整处不只能够包容键盘输入区域,还能够增加小显现屏。因为曲折部分不足以支撑,苹果在背部规划了底座,且底座内能够包容外围接口和电源等硬件。

苹果在专利中提出,曲折部分能够调整视点,乃至彻底收起以便于运送等。别的,曲折结构中还规划了楔形插槽,用于埋线等。

不过专利归专利,苹果iMac什么时候才干用上这个技能现在还不能确认。

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